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小型气氛真空箱式炉
小型气氛真空箱式炉是本公司新开发的一种新型炉型，控温精度高≤0.1℃，温度均匀性好±2℃，温度可达2300℃。占地面积小，周转灵活。特别适合于小批量生产或者实验室使用。
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感应式碳化硅烧结炉
小型气氛真空箱式炉是本公司新开发的一种新型炉型，控温精度高≤0.1℃，温度均匀性好±2℃，温度可达2300℃。占地面积小，周转灵活。特别适合于小批量生产或者实验室使用。
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碳化硅/氮化硅真空高温烧结炉
小型气氛真空箱式炉是本公司新开发的一种新型炉型，控温精度高≤0.1℃，温度均匀性好±2℃，温度可达2300℃。占地面积小，周转灵活。特别适合于小批量生产或者实验室使用。
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真空裂解炉
小型气氛真空箱式炉是本公司新开发的一种新型炉型，控温精度高≤0.1℃，温度均匀性好±2℃，温度可达2300℃。占地面积小，周转灵活。特别适合于小批量生产或者实验室使用。
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碳陶复合材料RMI烧结炉
在碳陶制作过程中，RMI是将热场加热到2000℃以上，依靠毛细管力使前驱体或者碳原气氛、硅原气氛分子渗入多孔碳预制体中，并且与预制体中的碳基体发生反应生成所设计的新基体的制备工艺。与CVI和PIP工艺^比，其效率高，一次熔渗即可制备得到几乎全致密的碳陶复合材料，是一种碳陶复合材料的高效率低成本制备工艺，为有效推进碳陶复合材料研发和应用提供助力
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碳化硅反应烧结炉
小型气氛真空箱式炉是本公司新开发的一种新型炉型，控温精度高≤0.1℃，温度均匀性好±2℃，温度可达2300℃。占地面积小，周转灵活。特别适合于小批量生产或者实验室使用。
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碳化硅重结晶烧结炉
小型气氛真空箱式炉是本公司新开发的一种新型炉型，控温精度高≤0.1℃，温度均匀性好±2℃，温度可达2300℃。占地面积小，周转灵活。特别适合于小批量生产或者实验室使用。
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3D打印碳化硅烧结炉
小型气氛真空箱式炉是本公司新开发的一种新型炉型，控温精度高≤0.1℃，温度均匀性好±2℃，温度可达2300℃。占地面积小，周转灵活。特别适合于小批量生产或者实验室使用。
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无压碳化硅烧结炉
小型气氛真空箱式炉是本公司新开发的一种新型炉型，控温精度高≤0.1℃，温度均匀性好±2℃，温度可达2300℃。占地面积小，周转灵活。特别适合于小批量生产或者实验室使用。
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实验型碳化硅烧结炉
小型气氛真空箱式炉是本公司新开发的一种新型炉型，控温精度高≤0.1℃，温度均匀性好±2℃，温度可达2300℃。占地面积小，周转灵活。特别适合于小批量生产或者实验室使用。